Jezik

0515-83835888
Dom / Proizvodi / Kompozitna oprema bakrene folije / Vakuum kotrljanja za kotrljanje dvostranog sustava raspršivanja) (sposoban za dvostrane matalne materijale

Vakuum kotrljanja za kotrljanje dvostranog sustava raspršivanja) (sposoban za dvostrane matalne materijale

Princip rada magnetrona za raspršivanje vakuumskog stroja

Princip rada magnetronskog raspršivanja vakuumskog stroja je korištenje magnetskog polja i ciljanog materijala za odlaganje materijala na supstrat raspršivanjem.
Specifični princip rada je sljedeći:
1. Pripremite vakuumsko okruženje: Postavite supstrat koji će se preraditi u vakuumsku komoru i evakuirati vakuumsku komoru kroz ispušni sustav kako biste formirali vakuumsko okruženje.
2. Zagrijte ciljni materijal: ciljni uređaj za grijanje u vakuumskoj komori zagrijava ciljni materijal kako bi dostigao temperaturu isparavanja.
3. Generirajte magnetsko polje: stavite uređaj magnetskog polja u blizini ciljanog materijala i nanesite magnetsko polje da formira područje magnetskog polja na površini ciljnog materijala.
4. Proces raspršivanja: Kad ciljni materijal dosegne temperaturu isparavanja, atomi na površini ciljnog materijala počinju isparavati i formirati plazmu pod djelovanjem magnetskog polja. Ove će plazme utjecati ili isprštiti atome ili molekule ciljnog materijala.
5. Taloženje na supstratu: Potom se raspršeni atomi ili molekuli talože na površini supstrata kako bi se stvorili željeni film.
Kontroliranjem procesnih parametara raspršivanja, poput temperature ciljnog materijala, snage raspršivanja, tlaka plina itd., Debljina, sastav i struktura deponiranog filma može se kontrolirati.
Općenito, magnetron raspršivanje vakuumskih strojeva za prevlačenje topline i isparuju ciljni materijal i odložite raspršene atome ili molekule na supstrat pod djelovanjem magnetskog polja kako bi se postigla priprema tankih filmova.

udio:
Prev: Vakuum rola za kotrljanje dvostranog sustava za isparavanje otpora otpora) (sposoban za dvostrano oblaganje aluminija) SLJEDEĆI: No next product
Parametar proizvoda
Supstrat materijal PET/PP 3 µM ~ 12 μm
Širina 1350 mm (efektivna širina taloženja: 1300 mm)
Brzina linije 2m/min (sa svake strane 1 μm x obje strane)
Proizvodni kapacitet: oko 95.000m 2 /mjesec
Specifikacija premaza Rotacijski magnetron prskanje katode 32set
Radni tlak zraka: 0,5 ~ 1,0pa
Površinski obrada Grijač ili lon bombardiranje
Performanse membrane Sastav membrane: sloj adhezije (SP)/sloj elektroda Cu (isparavanje)/zaštitni sloj (SP)
Raspodjela debljine: ± 5 %
Otpor membrane: 25mΩ □
Proizvod preporučen
KOTA Technology Limited Company

O nama

KOTA Technology Limited Company Osnovan je 2012. godine, s registriranim kapitalom od 10 milijuna juana, nacionalno je visokotehnološko poduzeće.
Sa sjedištem u Šangaju u Kini, tvrtka ima brojne podružnice u stopostotnom vlasništvu i držanje u Nantongu, Yancheng i drugim mjestima u provinciji Jiangsu, te je osnovala istraživački i razvojni centri u Kini i Japanu kako bi postavili globalno tržište. Trenutno je tvrtka prerasla u poznatog domaćeg proizvođača novog energetskog inteligentnog opreme i poduzeće je u području opreme za litij bakrenu foliju u zemlji. Osnovni tehnički tim tvrtke na čelu s gospodinom Matsudom Mitsuya u Nagoji u Japanu, fokusiran je na razvoj i integraciju visokokvalitetnog proizvodne opreme i sustava automatizacije u području visoko precizne elektromehaničke opreme. Uvođenjem japanskih naprednih koncepata tehnologije i dizajna i uvoza originalnih preciznih dijelova iz Japana, različiti proizvodi opreme koje je tvrtka proizvela postala su referentne vrijednosti u industriji.

Čast

  • čast
    Certifikat
  • čast
    Certifikat
  • čast
    Certifikat
  • čast
    Certifikat
  • čast
    Certifikat
  • čast
    Certifikat

Vijesti

Kontaktirajte nas odmah

Znanje u industriji

1. Stvaranje kontroliranog okruženja vakuuma
Prvi korak u postupku raspršivanja magnetrona je stvaranje kontroliranog vakuumskog okruženja. Vakuumska komora, koja je sastavni dio postupka premaza, sadrži supstrat i ciljni materijal. Pri pripremi komore evakuira se pomoću sofisticiranog ispušnog sustava za postizanje visokog stupnja vakuuma. Vakuum je potreban za uklanjanje čestica zraka, prašine ili bilo kojeg oblika onečišćenja koji bi mogao ometati kvalitetu taloženja tankog filma.
Stvaranje ovog vakuuma također omogućuje Vakuum kotrljanja za kotrljanje dvostranog sustava prskanja raditi s minimalnim otporom, čineći postupak taloženja učinkovitijim. Sprječava oksidaciju ciljanog materijala i osigurava da se na supstrat deponiraju samo ispršeni atomi iz ciljnog materijala. U slučaju Hongtian Technology Co., Ltd., vakuumsko okruženje obično se kreće od 0,5 do 1,0 PA, što je raspon tlaka koji je optimalan za raspršivanje metalnih slojeva poput bakra ili aluminija.
Jednom kada je komora pod željenim vakuumom, supstrat se pažljivo usklađuje kako bi se osigurao jednolični premaz. Supstrati poput PET (polietilen tereftalat) ili PP (polipropilen), obično u debljinama u rasponu od 3 µm do 12 µm, neprekidno se pomiču tijekom procesa premaza. Vakuum osigurava da se premaz dosljedno primjenjuje na cijeloj površini supstrata. Vakuumska kolut za kotrljanje dvostranog sustava prskanja dizajnirana je za velike brzine, s linijskom brzinom od oko 2 metra u minuti. To ga čini idealnim za veliku proizvodnju, s Hongtian Technology Co., Ltd. sustavom koji može prevladati otprilike 95.000 četvornih metara mjesečno.
Kontroliranjem vakuuma, sustav minimizira bilo kakvu potencijalnu kontaminaciju i pruža čisto, stabilno okruženje za proces raspršivanja, osiguravajući da konačni obloženi film ispunjava potrebne specifikacije za debljinu, ujednačenost i adheziju.

2. Proces raspršivanja magnetrona: taloženje materijala
Jednom kada se postavi vakuumsko okruženje, započinje postupak raspršivanja. Hongtian Technology Co., Ltd., koristi katodu za prskanje magnetrona s 32 skupa magnetrona, koji su strateški postavljeni kako bi se osiguralo jednolično taloženje materijala na obje strane supstrata. Proces raspršivanja započinje kada se u vakuumsku komoru uvede inertni plin, obično argon. Na ciljni materijal primjenjuje se visoki napon, zbog čega se ioni plina ioniziraju.
Ionizirane molekule plina tada se sudaraju s ciljnim materijalom, odbacivši atome s ciljne površine. Ti se atomi zatim izbacuju i putuju kroz vakuum do supstrata, gdje se kondenziraju i formiraju tanki, ujednačeni premaz. Proces je visoko kontroliran, s Hongtian Technology Co., Ltd., osiguravajući da se debljina premaza drži u preciznom rasponu tolerancije od ± 5%, što omogućava konzistentnu kvalitetu tijekom cijele proizvodnje.
Jedna od ključnih prednosti postupka prskanja magnetrona jest njegova sposobnost istovremeno premazana obje strane supstrata. Ovo dvostrano raspršivanje značajno povećava učinkovitost i smanjuje vrijeme proizvodnje, što je glavna korist za industrije koje zahtijevaju velike količine obloženih materijala. Ciljni materijal koji se koristi u raspršivanju može se razlikovati ovisno o primjeni; Na primjer, bakar (Cu) se obično koristi kao materijal elektroda, dok se drugi materijali mogu koristiti za zaštitne slojeve. Hongtian Technology Co., Ltd. osigurava da se ciljni materijali zagrijavaju na odgovarajući način, pružajući optimalne uvjete za raspršivanje.
Pored standardnih metalnih premaza, sustav također prihvaća taloženje složenih višeslojnih filmova, kao što su privrženi slojevi (SP), slojevi elektroda (Cu) i zaštitni slojevi (SP). Ovaj slojeviti pristup povećava performanse premaza, poboljšavajući njegovu izdržljivost, električnu vodljivost i otpornost na koroziju. Katoda za prskanje magnetrona osigurava da je taloženje ujednačeno i dosljedno s obje strane supstrata, omogućavajući Hongtian Technology Co., Ltd., da proizvede visokokvalitetne obložene materijale koji zadovoljavaju stroge standarde različitih industrija.

3. Optimiziranje kvalitete i performansi premaza
Osiguravanje kvalitete i performansi premaza ključni je dio procesa raspršivanja. Sustav je opremljen značajkama dizajniranim za poboljšanje adhezije i izdržljivosti tankih filmova primijenjenih na supstrate. Nakon što se materijal rasprsne na supstrat, Hongtian Technology Co., Ltd. koristi tretman grijanja ili bombardiranja iona kako bi poboljšao prianjanje između premaza i supstrata. Ovaj je korak ključan za osiguravanje da premaz ostane netaknut tijekom naknadnog rukovanja ili primjene, posebno u zahtjevnim okruženjima.
Sastav premaza obično se sastoji od adhezijskog sloja (SP), provodljivog sloja elektroda (Cu) i zaštitnog sloja (SP). Ova kombinacija slojeva pruža nekoliko prednosti, uključujući poboljšanu mehaničku čvrstoću, električnu vodljivost i otpornost na habanje i koroziju. Zaštitni sloj osigurava da je premaz otporan na okolišne čimbenike poput vlage, prašine i temperaturnih fluktuacija, što je posebno važno u industrijama poput elektronike i automobila.
Hongtian Technology Co., Ltd., stavlja visok naglasak na kontrolu ujednačenosti i debljine premaza. S tolerancijom na raspodjelu debljine membrane od ± 5%, sustav osigurava da svaki supstrat obrađen pod njegovim vakuumskim kolutom za kotrljanje dvostranog sustava prskanja dobiva dosljedan premaz. Ova je preciznost ključna za primjene u kojima su ujednačenost i pouzdanost ključni, poput proizvodnje poluvodiča, solarnih panela ili ukrasnih završnica u automobilskim dijelovima.
Otpor konačnog premaza obično je oko 25 MΩ □, vrijednost koja osigurava nizak električni otpor i izvrsnu vodljivost, što je neophodno za primjenu u elektronici i sustavima za skladištenje energije. Visoka razina kontrole nad postupkom prevlačenja i sposobnost proizvodnje velikih količina visokokvalitetnog materijala čine Hongtian Technology Co., Ltd. tehnologiju idealnim izborom za industrije koje zahtijevaju preciznost, pouzdanost i učinkovitost.